SiNx/a-SiCX:H passivation layers for p- and n- type crystalline silicon wafers

COSCIA, UBALDO and AMBROSONE, GIUSEPPINA (2008) SiNx/a-SiCX:H passivation layers for p- and n- type crystalline silicon wafers. [Pubblicazione su rivista scientifica]

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Tipologia di documento:Pubblicazione su rivista scientifica
Settori scientifico-disciplinari MIUR:Non specificato
Stato del full text:Accessibilità ristretta
Data:2008
Altri Autori:U. COSCIA; G. AMBROSONE; P. RAVA; P. RIVOLO; F. FERRAZZA; L. SERENELLI; S. DE IULIIS; M. TUCCI
Numero di pagine:5
Intervallo di pagina:pp. 1569-1573
Volume:516
Dipartimento o Struttura:Dipartimento di Scienze Fisiche
Numero identificativo:10.1016/j.tsf.2007.03.071
Titolo rivista/pubblicazione:THIN SOLID FILMS
Numero di sistema:7308
Depositato il:21 Ottobre 2010 08:16
Ultima modifica:21 Ottobre 2010 08:16

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