SiNx/a-SiCX:H passivation layers for p- and n- type crystalline silicon wafers
COSCIA, UBALDO and AMBROSONE, GIUSEPPINA (2008) SiNx/a-SiCX:H passivation layers for p- and n- type crystalline silicon wafers. [Pubblicazione su rivista scientifica] Full text non disponibile da questo archivio.
| Tipologia di documento: | Pubblicazione su rivista scientifica |
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| Settori scientifico-disciplinari MIUR: | Non specificato |
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| Stato del full text: | Accessibilità ristretta |
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| Data: | 2008 |
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| Altri Autori: | U. COSCIA; G. AMBROSONE; P. RAVA; P. RIVOLO; F. FERRAZZA; L. SERENELLI; S. DE IULIIS; M. TUCCI |
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| Numero di pagine: | 5 |
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| Intervallo di pagina: | pp.
1569-1573 |
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| Volume: | 516 |
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| Dipartimento o Struttura: | Dipartimento di Scienze Fisiche |
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| Numero identificativo: | 10.1016/j.tsf.2007.03.071 |
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| Titolo rivista/pubblicazione: | THIN SOLID FILMS |
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| Numero di sistema: | 7308 |
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| Depositato il: | 21 Ottobre 2010 08:16 |
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| Ultima modifica: | 21 Ottobre 2010 08:16 |
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