Mele, Luigi (2008) Characterization of helium implantation in silicon for the optimisation of static and dynamic behaviour of power diodes. [Tesi di dottorato] (Inedito)
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| Tipologia del documento: | Tesi di dottorato |
|---|---|
| Lingua: | English |
| Titolo: | Characterization of helium implantation in silicon for the optimisation of static and dynamic behaviour of power diodes |
| Autori: | Autore Email Mele, Luigi [non definito] |
| Data: | 2008 |
| Tipo di data: | Pubblicazione |
| Numero di pagine: | 143 |
| Istituzione: | Università degli Studi di Napoli Federico II |
| Dipartimento: | Ingegneria elettronica e delle telecomunicazioni |
| Dottorato: | Ingegneria elettronica e delle telecomunicazioni |
| Ciclo di dottorato: | 20 |
| Coordinatore del Corso di dottorato: | nome email Poggi, Giovanni [non definito] |
| Tutor: | nome email Spirito, Paolo [non definito] |
| Data: | 2008 |
| Numero di pagine: | 143 |
| Parole chiave: | Helium; Lifetime; Dynamic avalanche |
| Settori scientifico-disciplinari del MIUR: | Area 09 - Ingegneria industriale e dell'informazione > ING-INF/01 - Elettronica |
| Depositato il: | 31 Lug 2008 |
| Ultima modifica: | 30 Apr 2014 19:28 |
| URI: | http://www.fedoa.unina.it/id/eprint/2048 |
| DOI: | 10.6092/UNINA/FEDOA/2048 |
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