Characterization of helium implantation in silicon for the optimisation of static and dynamic behaviour of power diodes

Mele, Luigi (2008) Characterization of helium implantation in silicon for the optimisation of static and dynamic behaviour of power diodes. [Tesi di dottorato] (Inedito)

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Tipologia di documento:Tesi di dottorato
Parole chiave:Helium; Lifetime; Dynamic avalanche
Settori scientifico-disciplinari MIUR:Area 09 Ingegneria industriale e dell'informazione > ING-INF/01 ELETTRONICA
Coordinatori della Scuola di dottorato:
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Poggi, Giovanni
Tutor della Scuola di dottorato:
Tutor del Corso di dottoratoe-mail (se nota)
Spirito, Paolo
Stato del full text:Accessibile
Data:2008
Numero di pagine:143
Istituzione:Università degli Studi di Napoli Federico II
Dipartimento o Struttura:Ingegneria Elettronica e delle Telecomunicazioni
Tipo di tesi:Dottorato
Stato dell'Eprint:Inedito
Denominazione del dottorato:Ingegneria Elettronica e delle Telecomunicazioni
Ciclo di dottorato:XX
Numero di sistema:2048
Depositato il:31 Luglio 2008
Ultima modifica:04 Febbraio 2009 09:48

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