Deposition Of Silicon-Carbon Films At Different Substrate Temperatures By PECVD

COSCIA, UBALDO and AMBROSONE, GIUSEPPINA and MADDALENA, PASQUALINO (2006) Deposition Of Silicon-Carbon Films At Different Substrate Temperatures By PECVD. In: EPVSEC, 4-8 September 2006, Dresda.

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Tipologia di documento:Contributo in atti di congresso o conferenza (Non specificato)
Settori scientifico-disciplinari MIUR:Non specificato
Stato del full text:Accessibilità ristretta
Data:2006
Altri Autori:U. Coscia, G. Ambrosone, P. Maddalena, A. Setaro, S. Santucci, M. Passacantando, M. Tucci
Editore:Wip-Renewable Energies
Numero di pagine:0
Intervallo di pagina:pp. 1775-1778
Dipartimento o Struttura:Dipartimento di Scienze Fisiche
Titolo dell'evento:EPVSEC
Luogo dell'Evento:Dresda
Data dell'evento:4-8 September 2006
Numero di sistema:5619
Depositato il:18 Ottobre 2010 10:15
Ultima modifica:18 Ottobre 2010 10:15

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