Deposition Of Silicon-Carbon Films At Different Substrate Temperatures By PECVD
COSCIA, UBALDO and AMBROSONE, GIUSEPPINA and MADDALENA, PASQUALINO (2006) Deposition Of Silicon-Carbon Films At Different Substrate Temperatures By PECVD. In: EPVSEC, 4-8 September 2006, Dresda. Full text non disponibile da questo archivio.
| Tipologia di documento: | Contributo in atti di congresso o conferenza (Non specificato) |
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| Settori scientifico-disciplinari MIUR: | Non specificato |
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| Stato del full text: | Accessibilità ristretta |
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| Data: | 2006 |
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| Altri Autori: | U. Coscia, G. Ambrosone, P. Maddalena, A. Setaro, S. Santucci, M. Passacantando, M. Tucci |
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| Editore: | Wip-Renewable Energies |
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| Numero di pagine: | 0 |
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| Intervallo di pagina: | pp.
1775-1778 |
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| Dipartimento o Struttura: | Dipartimento di Scienze Fisiche |
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| Titolo dell'evento: | EPVSEC |
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| Luogo dell'Evento: | Dresda |
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| Data dell'evento: | 4-8 September 2006 |
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| Numero di sistema: | 5619 |
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| Depositato il: | 18 Ottobre 2010 10:15 |
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| Ultima modifica: | 18 Ottobre 2010 10:15 |
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