MICROCRYSTALLINE SILICON THIN FILMS GROWN AT HIGH DEPOSITION RATE BY PECVD

AMBROSONE, GIUSEPPINA and COSCIA, UBALDO and MADDALENA, PASQUALINO (2006) MICROCRYSTALLINE SILICON THIN FILMS GROWN AT HIGH DEPOSITION RATE BY PECVD. [Pubblicazione su rivista scientifica]

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Tipologia di documento:Pubblicazione su rivista scientifica
Settori scientifico-disciplinari MIUR:Non specificato
Stato del full text:Accessibilità ristretta
Data:2006
Altri Autori:G. AMBROSONE; U. COSCIA; S. LETTIERI; P. MADDALENA; M. AMBRICO; G. PERNA; C. MINARINI
Editore:Elsevier BV:PO Box 211, 1000 AE Amsterdam Netherlands:011 31 20 4853757, 011 31 20 4853642, 011 31 20 4853641, EMAIL: nlinfo-f@elsevier.nl, INTERNET: http://www.elsevier.nl, Fax: 011 31 20 4853598
Numero di pagine:5
Intervallo di pagina:pp. 280-284
Volume:511-512
Dipartimento o Struttura:Dipartimento di Scienze Fisiche
Numero identificativo:10.1016/j.tsf.2005.12.110
Titolo rivista/pubblicazione:THIN SOLID FILMS
Numero di sistema:6519
Depositato il:20 Ottobre 2010 10:01
Ultima modifica:20 Ottobre 2010 10:01

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