MICROCRYSTALLINE SILICON THIN FILMS GROWN AT HIGH DEPOSITION RATE BY PECVD
AMBROSONE, GIUSEPPINA and COSCIA, UBALDO and MADDALENA, PASQUALINO (2006) MICROCRYSTALLINE SILICON THIN FILMS GROWN AT HIGH DEPOSITION RATE BY PECVD. [Pubblicazione su rivista scientifica] Full text non disponibile da questo archivio.
| Tipologia di documento: | Pubblicazione su rivista scientifica |
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| Settori scientifico-disciplinari MIUR: | Non specificato |
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| Stato del full text: | Accessibilità ristretta |
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| Data: | 2006 |
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| Altri Autori: | G. AMBROSONE; U. COSCIA; S. LETTIERI; P. MADDALENA; M. AMBRICO; G. PERNA; C. MINARINI |
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| Editore: | Elsevier BV:PO Box 211, 1000 AE Amsterdam Netherlands:011 31 20 4853757, 011 31 20 4853642, 011 31 20 4853641, EMAIL: nlinfo-f@elsevier.nl, INTERNET: http://www.elsevier.nl, Fax: 011 31 20 4853598 |
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| Numero di pagine: | 5 |
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| Intervallo di pagina: | pp.
280-284 |
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| Volume: | 511-512 |
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| Dipartimento o Struttura: | Dipartimento di Scienze Fisiche |
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| Numero identificativo: | 10.1016/j.tsf.2005.12.110 |
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| Titolo rivista/pubblicazione: | THIN SOLID FILMS |
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| Numero di sistema: | 6519 |
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| Depositato il: | 20 Ottobre 2010 10:01 |
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| Ultima modifica: | 20 Ottobre 2010 10:01 |
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