SILICON-CARBON FILMS DEPOSITED AT LOW SUBSTRATE TEMPERATURE

AMBROSONE, GIUSEPPINA and COSCIA, UBALDO and MADDALENA, PASQUALINO (2006) SILICON-CARBON FILMS DEPOSITED AT LOW SUBSTRATE TEMPERATURE. [Pubblicazione su rivista scientifica]

Full text non disponibile da questo archivio.


Tipologia di documento:Pubblicazione su rivista scientifica
Settori scientifico-disciplinari MIUR:Non specificato
Stato del full text:Accessibilità ristretta
Data:2006
Altri Autori:G. AMBROSONE; U. COSCIA; S. LETTIERI; P. MADDALENA; M. DELLA NOCE; S. FERRERO; S. RESTELLO; V. RIGATO; M. TUCCI
Editore:Elsevier BV:PO Box 211, 1000 AE Amsterdam Netherlands:011 31 20 4853757, 011 31 20 4853642, 011 31 20 4853641, EMAIL: nlinfo-f@elsevier.nl, INTERNET: http://www.elsevier.nl, Fax: 011 31 20 4853598
Numero di pagine:4
Intervallo di pagina:pp. 1371-1375
Volume:352
Dipartimento o Struttura:Dipartimento di Scienze Fisiche
Numero identificativo:10.1016/j.noncrysol.2005.10.041
Titolo rivista/pubblicazione:JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS
Numero di sistema:6520
Depositato il:20 Ottobre 2010 10:01
Ultima modifica:20 Ottobre 2010 10:01

Solo per gli Amministratori dell'archivio: edita il record