Substrate heating influence on plume propagation during pulsed laser deposition of complex oxides

AMORUSO, SALVATORE and BRUZZESE, RICCARDO (2007) Substrate heating influence on plume propagation during pulsed laser deposition of complex oxides. [Pubblicazione su rivista scientifica]

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Abstract

We investigate the effects of the substrate-heater temperature on the expansion dynamics of laser plumes of complex oxides in oxygen atmosphere. We observed a considerable reduction of the background gas resistance to plume propagation as the substrate temperature was increased, leading to a remarkable change in the velocity of the species impacting the substrate during film growth. The deposition temperature thus influences film growth not only through its direct thermal effect on surface kinetics of adatoms, but also by affecting the energetic properties of the precursors in the gas phase. We interpret the results with a simplified model of plume front propagation, accounting for the change in the background gas density induced by the substrate temperature. © 2007 American Institute of Physics.

Tipologia di documento:Pubblicazione su rivista scientifica
Settori scientifico-disciplinari MIUR:Non specificato
Stato del full text:Accessibilità ristretta
Data:2007
Altri Autori:SAMBRI A; S. AMORUSO; WANG X; RADOVIC M; MILETTO GRANOZIO F; R. BRUZZESE
Editore:American Institute of Physics:2 Huntington Quadrangle, Suite 1NO1:Melville, NY 11747:(800)344-6902, (631)576-2287, EMAIL: subs@aip.org, INTERNET: http://www.aip.org, Fax: (516)349-9704
Numero di pagine:3
Intervallo di pagina:151501-1-151501-3
Volume:91
Dipartimento o Struttura:Dipartimento di Scienze Fisiche
Numero identificativo:10.1063/1.2795792
Titolo rivista/pubblicazione:APPLIED PHYSICS LETTERS
Numero di sistema:6905
Depositato il:20 Ottobre 2010 10:35
Ultima modifica:20 Ottobre 2010 10:35

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