Double pulse ultrafast laser ablation of nickel in vacuum

AMORUSO, SALVATORE and BRUZZESE, RICCARDO (2009) Double pulse ultrafast laser ablation of nickel in vacuum. [Pubblicazione su rivista scientifica]

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Abstract

We have studied ultrafast laser ablation of nickel using a pair of identical ~250 fs 527 nm laser pulses separated by ~1 to ~1000 ps. Scanning white light interferometry was used to measure the ablated volume, and an ion probe was used to measure the angular distribution of the ablation plasma plume and the total ion emission. As the delay of the second pulse increased from ~10 to 100 ps the ablated volume decreased by more than a factor of 2; indeed it falls to a value below the single pulse case. Conversely, it is found that the ion yield is sharply increased in this delay regime. It seems that both these features can be explained by the interaction of the second laser pulse with the ablated material produced by the first pulse.

Tipologia di documento:Pubblicazione su rivista scientifica
Parole chiave:Ultrafast laser ablation, Laser produced plasma, Laser matter interaction
Settori scientifico-disciplinari MIUR:Non specificato
Stato del full text:Accessibilità ristretta
Data:2009
Altri Autori:T. Donnelly, J.G. Lunney, S. Amoruso, R. Bruzzese, X. Wang, X. Ni
Numero di pagine:5
Intervallo di pagina:013304-1-013304-5
Volume:106
Dipartimento o Struttura:Dipartimento di Scienze Fisiche
Numero identificativo:10.1063/1.3159010
Titolo rivista/pubblicazione:JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
Numero di sistema:7603
Depositato il:21 Ottobre 2010 08:57
Ultima modifica:21 Ottobre 2010 08:57

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