Daliento, Santolo and Spirito, Paolo and Gialanella, Lucio and Romano, Mario and Limata, Benedicta Norman (2006) Helium implantation in silicon: detailed experimental analysis of resistivity and lifetime profiles as a function of the implantation dose and energy. In: ISPSD 06, giugno 2006, Napoli.

Il contenuto (Full text) non è disponibile all'interno di questo archivio.
Tipologia del documento: Contributo a Convegno o Workshop ([non definito])
Lingua: English
Titolo: Helium implantation in silicon: detailed experimental analysis of resistivity and lifetime profiles as a function of the implantation dose and energy
Autori:
AutoreEmail
Daliento, Santolo[non definito]
Spirito, Paolo[non definito]
Gialanella, Lucio[non definito]
Romano, Mario[non definito]
Limata, Benedicta Norman[non definito]
Autore/i: S.Daliento, L.Mele, P.Spirito, L.Gialanella, M.Romano, B.N.Limata, R.Carta, L.Bellemo
Data: 2006
Numero di pagine: 0
Dipartimento: Scienze fisiche
Titolo dell'evento: ISPSD 06
Luogo dell'evento: Napoli
Data dell'evento: giugno 2006
Data: 2006
ISBN: 1-4244-9714-2
Intervallo di pagine: pp. 153-156
Numero di pagine: 0
Depositato il: 18 Ott 2010 08:15
Ultima modifica: 30 Apr 2014 19:41
URI: http://www.fedoa.unina.it/id/eprint/5618

Actions (login required)

Modifica documento Modifica documento