Helium implantation in silicon: detailed experimental analysis of resistivity and lifetime profiles as a function of the implantation dose and energy

DALIENTO, SANTOLO and SPIRITO, PAOLO and GIALANELLA, LUCIO and ROMANO, MARIO and LIMATA, BENEDICTA NORMAN (2006) Helium implantation in silicon: detailed experimental analysis of resistivity and lifetime profiles as a function of the implantation dose and energy. In: ISPSD 06, giugno 2006, Napoli.

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Tipologia di documento:Contributo in atti di congresso o conferenza (Non specificato)
Settori scientifico-disciplinari MIUR:Non specificato
Stato del full text:Accessibilità ristretta
Data:2006
Altri Autori:S.Daliento, L.Mele, P.Spirito, L.Gialanella, M.Romano, B.N.Limata, R.Carta, L.Bellemo
Numero di pagine:0
Intervallo di pagina:pp. 153-156
Dipartimento o Struttura:Dipartimento di Scienze Fisiche
ISBN:1-4244-9714-2
Titolo dell'evento:ISPSD 06
Luogo dell'Evento:Napoli
Data dell'evento:giugno 2006
Numero di sistema:5618
Depositato il:18 Ottobre 2010 10:15
Ultima modifica:18 Ottobre 2010 10:15

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