Helium implantation in silicon: detailed experimental analysis of resistivity and lifetime profiles as a function of the implantation dose and energy
DALIENTO, SANTOLO and SPIRITO, PAOLO and GIALANELLA, LUCIO and ROMANO, MARIO and LIMATA, BENEDICTA NORMAN (2006) Helium implantation in silicon: detailed experimental analysis of resistivity and lifetime profiles as a function of the implantation dose and energy. In: ISPSD 06, giugno 2006, Napoli. Full text non disponibile da questo archivio.
| Tipologia di documento: | Contributo in atti di congresso o conferenza (Non specificato) |
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| Settori scientifico-disciplinari MIUR: | Non specificato |
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| Stato del full text: | Accessibilità ristretta |
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| Data: | 2006 |
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| Altri Autori: | S.Daliento, L.Mele, P.Spirito, L.Gialanella, M.Romano, B.N.Limata, R.Carta, L.Bellemo |
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| Numero di pagine: | 0 |
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| Intervallo di pagina: | pp.
153-156 |
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| Dipartimento o Struttura: | Dipartimento di Scienze Fisiche |
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| ISBN: | 1-4244-9714-2 |
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| Titolo dell'evento: | ISPSD 06 |
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| Luogo dell'Evento: | Napoli |
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| Data dell'evento: | giugno 2006 |
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| Numero di sistema: | 5618 |
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| Depositato il: | 18 Ottobre 2010 10:15 |
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| Ultima modifica: | 18 Ottobre 2010 10:15 |
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