Spectroscopic ellipsometry study of hydrogenated amorphous silicon carbon alloy films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

ABBATE, GIANCARLO and AMBROSONE, GIUSEPPINA and COSCIA, UBALDO and MARINO, ANTIGONE (2010) Spectroscopic ellipsometry study of hydrogenated amorphous silicon carbon alloy films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition. [Pubblicazione su rivista scientifica]

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Tipologia di documento:Pubblicazione su rivista scientifica
Settori scientifico-disciplinari MIUR:Non specificato
Stato del full text:Accessibilità ristretta
Data:2010
Altri Autori:D. K. Basa, G. Abbate, G. Ambrosone, U. Coscia, A. Marino
Numero di pagine:0
Intervallo di pagina:pp. 23502-23507
Volume:107
Dipartimento o Struttura:Dipartimento di Scienze Fisiche
Titolo rivista/pubblicazione:JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
Numero di sistema:7731
Depositato il:21 Ottobre 2010 09:39
Ultima modifica:21 Ottobre 2010 09:39

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