Pagliarulo, Vito (2010) Electron Beam Lithography patterning of superconducting and magnetic nanostructures for novel optical and spintronic devices. [Tesi di dottorato] (Inedito)
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| Tipologia del documento: | Tesi di dottorato |
|---|---|
| Lingua: | English |
| Titolo: | Electron Beam Lithography patterning of superconducting and magnetic nanostructures for novel optical and spintronic devices |
| Autori: | Autore Email Pagliarulo, Vito pagliarulo@na.infn.it |
| Data: | 30 Novembre 2010 |
| Numero di pagine: | 123 |
| Istituzione: | Università degli Studi di Napoli Federico II |
| Dipartimento: | Scienze fisiche |
| Scuola di dottorato: | Ingegneria industriale |
| Dottorato: | Tecnologie innovative per materiali, sensori ed imaging |
| Ciclo di dottorato: | 23 |
| Coordinatore del Corso di dottorato: | nome email Andreone, Antonello andreone@unina.it |
| Tutor: | nome email Pepe, Giovanni Piero gpepe@na.infn.it Esposito, Emanuela [non definito] |
| Data: | 30 Novembre 2010 |
| Numero di pagine: | 123 |
| Parole chiave: | ebl, permalloy, domanin wall, magnetoresistance, sspd |
| Settori scientifico-disciplinari del MIUR: | Area 02 - Scienze fisiche > FIS/03 - Fisica della materia |
| Depositato il: | 09 Dic 2010 13:39 |
| Ultima modifica: | 30 Apr 2014 19:46 |
| URI: | http://www.fedoa.unina.it/id/eprint/8439 |
| DOI: | 10.6092/UNINA/FEDOA/8439 |
Abstract
In this thesis novel, high-end superconducting and spintronic devices have been fabricated and characterized. In summary, the proposed work has been focused on the realization of nanowires, and more generally nanostructures, using the Electron Beam Lithography. Such a technology offers a powerful solution for nanofabrication able to conjugate spatial resolution, operation flexibility, and costs. Two main research fields has been explored: superconductive nanowires for advanced optical detection and nanostructures for magneto-resistance based devices.
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