Electron Beam Lithography patterning of superconducting and magnetic nanostructures for novel optical and spintronic devices

Pagliarulo, Vito (2010) Electron Beam Lithography patterning of superconducting and magnetic nanostructures for novel optical and spintronic devices. [Tesi di dottorato] (Inedito)

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Abstract

In this thesis novel, high-end superconducting and spintronic devices have been fabricated and characterized. In summary, the proposed work has been focused on the realization of nanowires, and more generally nanostructures, using the Electron Beam Lithography. Such a technology offers a powerful solution for nanofabrication able to conjugate spatial resolution, operation flexibility, and costs. Two main research fields has been explored: superconductive nanowires for advanced optical detection and nanostructures for magneto-resistance based devices.

Tipologia di documento:Tesi di dottorato
Parole chiave:ebl, permalloy, domanin wall, magnetoresistance, sspd
Settori scientifico-disciplinari MIUR:Area 02 Scienze fisiche > FIS/03 FISICA DELLA MATERIA
Coordinatori della Scuola di dottorato:
Coordinatore del Corso di dottoratoe-mail (se nota)
Andreone, Antonelloandreone@unina.it
Tutor della Scuola di dottorato:
Tutor del Corso di dottoratoe-mail (se nota)
Pepe, Giovanni Pierogpepe@na.infn.it
Esposito, Emanuela
Stato del full text:Accessibile
Data:30 Novembre 2010
Numero di pagine:123
Istituzione:Università degli Studi di Napoli Federico II
Dipartimento o Struttura:Scienze fisiche
Tipo di tesi:Dottorato
Stato dell'Eprint:Inedito
Scuola di dottorato:Ingegneria industriale
Denominazione del dottorato:Tecnologie innovative per materiali, sensori ed imaging
Ciclo di dottorato:23
Numero di sistema:8439
Depositato il:09 Dicembre 2010 14:39
Ultima modifica:01 Settembre 2011 11:15

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