Pagliarulo, Vito (2010) Electron Beam Lithography patterning of superconducting and magnetic nanostructures for novel optical and spintronic devices. [Tesi di dottorato] (Inedito)

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Tipologia del documento: Tesi di dottorato
Lingua: English
Titolo: Electron Beam Lithography patterning of superconducting and magnetic nanostructures for novel optical and spintronic devices
Autori:
AutoreEmail
Pagliarulo, Vitopagliarulo@na.infn.it
Data: 30 Novembre 2010
Numero di pagine: 123
Istituzione: Università degli Studi di Napoli Federico II
Dipartimento: Scienze fisiche
Scuola di dottorato: Ingegneria industriale
Dottorato: Tecnologie innovative per materiali, sensori ed imaging
Ciclo di dottorato: 23
Coordinatore del Corso di dottorato:
nomeemail
Andreone, Antonelloandreone@unina.it
Tutor:
nomeemail
Pepe, Giovanni Pierogpepe@na.infn.it
Esposito, Emanuela[non definito]
Data: 30 Novembre 2010
Numero di pagine: 123
Parole chiave: ebl, permalloy, domanin wall, magnetoresistance, sspd
Settori scientifico-disciplinari del MIUR: Area 02 - Scienze fisiche > FIS/03 - Fisica della materia
Depositato il: 09 Dic 2010 13:39
Ultima modifica: 30 Apr 2014 19:46
URI: http://www.fedoa.unina.it/id/eprint/8439
DOI: 10.6092/UNINA/FEDOA/8439

Abstract

In this thesis novel, high-end superconducting and spintronic devices have been fabricated and characterized. In summary, the proposed work has been focused on the realization of nanowires, and more generally nanostructures, using the Electron Beam Lithography. Such a technology offers a powerful solution for nanofabrication able to conjugate spatial resolution, operation flexibility, and costs. Two main research fields has been explored: superconductive nanowires for advanced optical detection and nanostructures for magneto-resistance based devices.

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