Coscia, Ubaldo and Ambrosone, Giuseppina (2008) SiNx/a-SiCX:H passivation layers for p- and n- type crystalline silicon wafers. [Pubblicazione in rivista scientifica]
Il contenuto (Full text) non è disponibile all'interno di questo archivio.| Tipologia del documento: | Pubblicazione in rivista scientifica |
|---|---|
| Titolo: | SiNx/a-SiCX:H passivation layers for p- and n- type crystalline silicon wafers |
| Autori: | Autore Email Coscia, Ubaldo [non definito] Ambrosone, Giuseppina [non definito] |
| Autore/i: | U. COSCIA; G. AMBROSONE; P. RAVA; P. RIVOLO; F. FERRAZZA; L. SERENELLI; S. DE IULIIS; M. TUCCI |
| Data: | 2008 |
| Numero di pagine: | 5 |
| Dipartimento: | Scienze fisiche |
| Numero identificativo: | 10.1016/j.tsf.2007.03.071 |
| Titolo del periodico: | THIN SOLID FILMS |
| Data: | 2008 |
| Volume: | 516 |
| Intervallo di pagine: | pp. 1569-1573 |
| Numero di pagine: | 5 |
| Numero identificativo: | 10.1016/j.tsf.2007.03.071 |
| Depositato il: | 21 Ott 2010 06:16 |
| Ultima modifica: | 30 Apr 2014 19:43 |
| URI: | http://www.fedoa.unina.it/id/eprint/7308 |
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