Coscia, Ubaldo and Ambrosone, Giuseppina
(2008)
SiNx/a-SiCX:H passivation layers for p- and n- type crystalline silicon wafers.
[Pubblicazione in rivista scientifica]
Il contenuto (Full text) non è disponibile all'interno di questo archivio.
| Tipologia del documento: |
Pubblicazione in rivista scientifica
|
| Titolo: |
SiNx/a-SiCX:H passivation layers for p- and n- type crystalline silicon wafers |
| Autori: |
| Autore | Email |
|---|
| Coscia, Ubaldo | [non definito] | | Ambrosone, Giuseppina | [non definito] |
|
| Autore/i: |
U. COSCIA; G. AMBROSONE; P. RAVA; P. RIVOLO; F. FERRAZZA; L. SERENELLI; S. DE IULIIS; M. TUCCI |
| Data: |
2008 |
| Numero di pagine: |
5 |
| Dipartimento: |
Scienze fisiche |
| Numero identificativo: |
10.1016/j.tsf.2007.03.071 |
| Titolo del periodico: |
THIN SOLID FILMS |
| Data: |
2008 |
| Volume: |
516 |
| Intervallo di pagine: |
pp. 1569-1573 |
| Numero di pagine: |
5 |
| Numero identificativo: |
10.1016/j.tsf.2007.03.071 |
[error in script]
[error in script]
| Depositato il: |
21 Ott 2010 06:16 |
| Ultima modifica: |
30 Apr 2014 19:43 |
| URI: |
http://www.fedoa.unina.it/id/eprint/7308 |
Downloads per month over past year
Actions (login required)
 |
Modifica documento |
